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氧化镁(MgO)晶体
日期:2013-05-29 作者:
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氧化镁(MgO)晶体

氧化镁(MgO)是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等,由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。本中心可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的的MgO单晶,采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。

基本性质

晶体结构

立方

晶格常数

a=4.216Å

生长方法

电弧法

熔点

2852℃

密度

3.58g/cm3

莫氏硬度

5.5 Mohs

热膨胀系数

12.8×10-6/℃

介电常数

9.8

光学透过

> 90% @ 200 400 nm > 98 % 500 1000 nm

晶体解理面

<100>

产品规格

晶向

<100>±0.2o

<110>± 0.5o

<111>± 0.5o

抛光基片

外延抛光,单抛或双抛,Ra<10 Å

标准厚度

毛坯:1.0mm±0.1mm

抛光片:0.5mm±0.05mm

标准单晶基片

毛坯

φ1"×0.8mm, 1″×1″×0.8mm10×10×0.7mm

抛光片

φ2"×0.5mm,φ1"×0.5mm, 1″×1″×0.5mm

10×10×0.5mm10×5×0.5mm5×5×0.5mm

 


 
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